特集
Angstrom Sciences, Inc.がLinkedInに磁場フォーカス型マグネトロンスパッタリングカソードについて投稿しました
2021/07/29
磁極フォーカス型マグネトロンスパッタリングカソードによる高熱伝導材(Cu及びAl) ターゲットのスパッタリング。
磁極フォーカス型マグネトロンは狭幅3.5"(89mm)または5.0"(125mm)のターゲット幅の厚いターゲットの使用を可能にする独特な磁石を採用しています。
ターゲットの厚さは0.75"(19ミリメートル)で、通常、500キロワット時までスパッタリングが行えます。
この厚いターゲットと高い材料使用率により、ターゲット交換サイクルを低減します。
さらにアノードとターゲットクランプは、ターゲット交換サイクル間に発生する電気ショート防止のクリーニングが必要無いよう設計されています。
このカソードの主なるアプリケーションは、デバイス保護のためのオーバーコート層形成やケーブル、ラボ機器、コンピュータや携帯電話のEMI / RFIシールド形成などがあります。
